剪切分散机转速大小，剪切速率大小，剪切频率，剪切分散次数，设备定转子间隙大小，设备结构和设计等都会影响二氧化硅的分散结果。
高稳定性超细二氧化硅分散机，14000转二氧化硅分散机，超细白炭黑分散机，医药化工二氧化硅分散机，管线式四级二氧化硅分散机由德国IKN研发，国内总代理商上海依肯机械设备公司
CMSD高稳定性超细二氧化硅分散机是在传统胶体磨的基础上改进的一款除了研磨效果以外更添加可高速剪切分散头，使得物料在研磨粉碎的瞬间立即被高剪切分散。
上海依肯设备可制备60高固含量二氧化硅制品 上海依肯 林万翠CMSD14000转分散机在二氧化硅上的应用
1、胶体磨+分散机二合一设计：粉碎室设有三道磨碎区，一级为粗磨碎区，二级为细磨碎区，三层为超微磨碎区，通过调整定、转子的间隙，能有效地达到所需的超微粉碎效果（也可循环加工）。
2、间隙可调，研磨缝隙调节可以改变适用于特定工艺
3、设备运转速度高达14000转，是国nei普通分散机的4-5倍，gao效细化分散研磨物料
4、机身腔体采用三层夹套设计可以冷却也可以加热
5、采用德国双端面机械密封，在保证有冷却水的情况下，可以24小时连续不间断工作
6、从实验室设备平稳过渡到中试型实验以及后期的工业化放大实验，无需重新调整实验数据，ji大程度降低了风险
|
型号
|
流量
L/H
|
转速
rpm
|
线速度
m/s
|
功率
kw
|
入/出口连接
DN
|
|
CMSD 2000/4
|
300
|
14000
|
41
|
4
|
DN25/DN15
|
|
CMSD 2000/5
|
1000
|
10500
|
41
|
11
|
DN40/DN32
|
|
CMSD 2000/10
|
4000
|
7200
|
41
|
22
|
DN80/DN65
|
|
CMSD 2000/20
|
10000
|
4900
|
41
|
45
|
DN80/DN65
|
|
CMSD 2000/30
|
20000
|
2850
|
41
|
90
|
DN150/DN125
|
|
CMSD 2000/50
|
60000
|
1100
|
41
|
160
|
DN200/DN150
|
表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。
流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性，可以被调节到zui大允许量的10%
高稳定性超细二氧化硅分散机，14000转二氧化硅分散机，超细白炭黑分散机，医药化工二氧化硅分散机，管线式四级二氧化硅分散机