IKN设备客户群:我司有着丰富的石墨烯研磨经验,此款设备是专门针对石墨烯设计的专业设备,跟常州,无锡,长春,宁波,潍坊,深圳,厦门,东莞等地大型锂电石墨烯,碳纳米管生产企业有着深度合作。经过长期的努力,我们的设备在新材料制备上已经具有相当优势,部分国外客户已购买我们的产品。更多详细资料请来电咨询。
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举个简单的例子,jiu目前新材料中zui热门的石墨烯及其复合材料的制备而言,常会有石墨烯团聚,难分散均匀、难细化问题存在,从设备角度分析,在相同物料情况下,传统企业采用的批次式高速分散机,说是高速,其实转速也jiu3000转,同时由于是批次式,也jiu是插在罐中对物料分散混合,这样的设备不论是从物理力学角度分析还是从理论上分析都是难以达到将物料细化、分散、混合、甚至是不团聚的目的。当下石墨烯中上下游各企业有一种新工艺设备正在快速被使用,那jiu是研磨分散机。
石墨烯研磨分散机,新材料研磨分散机,碳纳米管研磨分散机,可降温高速研磨分散机,模块化高灵活性研磨分散机,光伏材料剪切分散机,相变材料高速分散机,纳米材料均质分散机
新材料分散技术三要素:分散介质、分散剂和分散设备
1、分散介质
(1)根据粘度不同,分散介质分为高粘度、中粘度和低粘度三种。
2、分散剂
(1)分散剂的选择,与分散介质的结构、极性、溶度参数等密切相关
(2)分散剂的用量
3、分散设备
(1)超声波分散设备:非常适合实验室规模、低粘度介质分散碳纳米管,用于中、高粘度介质时会受到先制
(2)研磨分散设备:适合大规模地分散碳纳米管、中粘度介质分散碳纳米管
(3)采用“先研磨分散、后超声波分散”组合方法,可以gao效、稳定地分散碳纳米管
在制备技术层面,氧化还原法与物理剥离法常被用作制备石墨烯粉体,而化学气相沉积法与外延生长法常被用于制备石墨烯薄膜。
IKN新材料研磨分散机采用的是剪切研磨的方式,作用是对分子间作用力进行一个解聚的过程,从而宝证了分子结构的完整性,zui大程度保留了其性能。
第1级由具有经细度递升的三级锯齿突起和凹槽,定子可以无线制的被调整到所需要的与转子之间的距离,在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。这样的设计可以保障物料初始颗粒较大时,可以顺畅进入研磨分散机腔体,通过高速旋转的经细度递升磨头,zui终得到微纳米级的物料颗粒。
第2级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子、转子和批次式机器的工作头设计的不同主要在对输送性的要求方面,te别要引起注意的是:在粗经度、中等经度、细经度和其他一些工作头类型之间的区别不光是指定转子齿的排列,还有一个很zhong要的区别是不同工作头的几何学te征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学te征都能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例,依据以前的经验指定工作头来满足一个具体的应用。在大多数情况下,机器的构造是和具体应用相匹配的,因而它对制造出zui终产品是很zhong要。当不确定一种工作头的构造是否满足预期的应用。
IKN 新材料研磨分散设备之星 CMSD 2000系列研磨分散机设备选型表
型号 |
流量 L/H |
转速 rpm |
线速度 m/s |
功率 kw |
入/出口连接 DN |
CMSD 2000/4 |
300 |
14000 |
41 |
4 |
DN25/DN15 |
CMSD 2000/5 |
1000 |
10500 |
41 |
11 |
DN40/DN32 |
CMSD 2000/10 |
4000 |
7200 |
41 |
22 |
DN80/DN65 |
CMSD 2000/20 |
10000 |
4900 |
41 |
45 |
DN80/DN65 |
CMSD 2000/30 |
20000 |
2850 |
41 |
90 |
DN150/DN125 |
CMSD 2000/50 |
60000 |
1100 |
41 |
160 |
DN200/DN150 |
表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。
流量取决于设置的间隙和被处理物料的te性,可以被调节到zui大允许量的10%