石墨烯改性芳纶研磨分散机，石墨烯改性芳纶原液研磨分散机，石墨烯纳微片改性纤维研磨分散机，石墨烯高剪切胶体磨研磨分散是，透过胶体磨定、转齿之间的间隙（间隙可调）时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用，使物料被有效地乳化、分散和粉碎，达到物料超细粉碎及乳化的效果。
氨基化氧化石墨烯的制备；二、**改性芳纶纤维；三、氧化石墨烯表面接枝改性芳纶纤维。本发明的氧化石墨烯接枝改性芳纶纤维是将氧化石墨烯接枝至**修饰的芳纶纤维也就是石墨烯改性芳纶原液
石墨烯改性芳纶研磨分散机，石墨烯改性芳纶原液研磨分散机，石墨烯纳微片改性纤维研磨分散机，石墨烯高剪切胶体磨研磨分散
在上海依肯累积了大量关于石墨烯、碳纳米管、蠕虫石墨等的实验经验并总结后对此类客户我们推荐客户选用我们研磨分散机系列（CMD/CMSD/CMXD）的设备进行此类物质的研磨分散。
研磨式分散机是由胶体磨,分散机组合而成的高科技产品。
高剪切研磨分散机的**级研磨头部分的作用是在电动机的高速转动下物料从进口处直接进入高剪切破碎区，通过一种特殊粉碎装置，将流体中的一些大粉团、粘块、团块等大小颗粒迅速破碎，然后吸入剪切粉碎区，在十分狭窄的工作过道内由于转子刀片与定子刀片相对高速切割从而产生强烈摩擦及研磨破碎等。在机械运动和离心力的作用下，将已粉碎细化的物料重新压入精磨区进行研磨破碎。精磨区分三级，越向外延伸一级磨片精度越高，齿距越小，线速度越长，物料越磨越细，同时流体逐步向径向作曲线延伸。每到一级流体的方向速度瞬间发生变化，并且受到每分钟上千万次的高速剪切、强烈摩擦、挤压研磨、颗粒粉碎等，在经过三个精磨区的上千万次的高速剪切、研磨粉碎之后，从而产 生液料分子链断裂、颗粒粉碎、液粒撕破等功效使物料充分达到分散、粉碎、乳化、均质、细化的目的。液料的**小细度可达0.5um。
随后物料被甩出经过第二级高剪切的分散盘中进行剪切分散，进一步细化物料粒径，**后得到均一，稳定的乳液。
IKN石墨烯研磨分散机的研磨细度和产量可以调节，物料在石墨烯研磨分散机中的研磨指数与下列因素有关：
1.物料的成熟度。成熟度高的，易于研磨。2.胶体磨磨头轴的转速即线速度，转速快，则物料的研磨时间短。
3.物料直径。直径大的，打碎的程度差。
4.有效面积系数。系数大，物料研磨时间亦短。
5.导呈角大小。导呈角大的，物料在胶体磨中停留的时间亦短。
设备等级：化工级、卫生I级、卫生II级、无菌级
电机形式：普通马达、变频调速马达、防爆马达、变频防爆马达、
电源选择： 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
电机选配件： PTC 热保护、降噪型
研磨分散机材质：SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化锆陶瓷
研磨分散机选配：储液罐、排污阀、变频器、电控箱、移动小车
研磨分散机表面处理：抛光、耐磨处理
进出口联结形式：法兰、螺口、夹箍
研磨分散机选配容器：本设备适合于各种不同大小的容器
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研磨分散机 |
流量* |
输出 |
线速度 |
功率 |
入口/出口连接 |
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类型 |
l/h |
rpm |
m/s |
kW |
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CMSD 2000/4 |
300 |
14,000 |
41 |
4 |
DN25/DN15 |
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CMSD 2000/5 |
1000 |
10,500 |
41 |
11 |
DN40/DN32 |
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CMSD 2000/10 |
4000 |
7,200 |
41 |
22 |
DN80/DN65 |
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CMSD 2000/20 |
10000 |
4,900 |
41 |
45 |
DN80/DN65 |
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CMSD 2000/30 |
20000 |
2,850 |
41 |
90 |
DN150/DN125 |
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CMSD2000/50 |
60000 |
1,100 |
41 |
160 |
DN200/DN150 |
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*流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性，同时流量可以被调节到**允许量的10%。 |
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1 表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。
2 处理量取决于物料的粘度，稠度和**终产品的要求。
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